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ICP-RIE刻蚀系统

仪器分类:

制造设备

仪器状态:

所属单位:

中国科学技术大学 > 工程与材料科学实验中心 > 微系统实验室

仪器生产商:

SAMCO.Inc.

购置日期:

2023-04-22

使用模式:

按时预约,委托预约

规格型号:

RIE-800iPB

放置房间号:

力学三楼

仪器管理员:

朱五林,

email:zhuwl@ustc.edu.cn

微系统,

email:zwl111+A@163.com

  • 仪器介绍

主要参数

仪器介绍

利用能与被刻蚀材料起化学反应的气体,通过辉光放电使之形成等离子体,对基底表面未被掩蔽部分进行刻蚀。主要用于刻蚀氧化硅、氮化硅材料等,形成微纳米结构。