磁控溅射台

仪器分类：

制造设备

仪器状态：

所属单位：

中国科学技术大学 > 工程与材料科学实验中心 > 微系统实验室

仪器生产商：

矽基公司

购置日期：

2020-10-23

使用模式：

按时预约,委托预约

规格型号：

SP-SC4-A00

放置房间号：

力学三楼

仪器管理员：

朱五林，	email：zhuwl@ustc.edu.cn
微系统，	email：zwl111+A@163.com

预约

主要参数
仪器介绍	适用于8、6、4英寸硅片及不规则碎片，均匀性误差不大于±5%（8英寸内）。设备可用于各种金属和非金属薄膜（如Au、Pt、W、Mo、Ti、Al等）的沉积，所制薄膜可用于微机电系统器件的电极层、功能层等。

主要参数

适用于8、6、4英寸硅片及不规则碎片，均匀性误差不大于±5%（8英寸内）。

设备可用于各种金属和非金属薄膜（如Au、Pt、W、Mo、Ti、Al等）的沉积，所制薄膜可用于微机电系统器件的电极层、功能层等。